吳文發

Wu, Wen-Fa・工學院・機械工程系所

博士平均畢業時長

3.21 年

中位數 2.89 年・3 人

收錄論文

3 篇

100–100 學年度

全校中位數（供對照）

博士 6.11 年

畢業時長趨勢

每學年度畢業人數

只計入有論文收錄的畢業生；中途休學或更換指導教授的學生不會出現在這裡。

研究關鍵字

奈米刮痕矽鍺熱處理應變鬆弛磨耗Silicon germaniumthermal treatmentstrain relaxationnano-scratchwear機械特性奈米壓痕彈塑性變形陰極螢光Mechanical propertiesNanoindentationNanoscratchElastic–plastic deformationCathodoluminescence矽奈米線無電鍍金屬沉積化學蝕刻法抗反射特性異質介面表面增強拉曼Silicon nanowires (SiNWs)Electroless metal deposition(EMD)chemical etchingAnti-reflectionHeterojunctionSurface-enhanced Raman spectroscopy (SERS)

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指導論文

學年度	論文	學制	入學	提交日期	畢業時長
100	熱處理對矽鍺磊晶薄膜奈米磨耗特性之影響 The effect of thermal treatment on the nano-wear properties of SiGe epilayers 機械工程系所・共同指導：周長彬矽鍺、熱處理、應變鬆弛、奈米刮痕、磨耗、Silicon germanium、thermal treatment、strain relaxation、nano-scratch、wear	博士	98	2012-06-23	2.89 年
100	氮化鎵磊晶層之奈米機械特性與陰極螢光分析 The Study of Nanomechanical and Cathodoluminescence Characteristics on the GaN Epitaxial Layers 機械工程系所・共同指導：周長彬機械特性、奈米壓痕、奈米刮痕、彈塑性變形、陰極螢光、Mechanical properties、Nanoindentation、Nanoscratch、Elastic–plastic deformation、Cathodoluminescence	博士	97	2012-06-19	3.88 年
100	利用田口-灰關聯法探討以無電鍍沉積合成大面積矽奈米線陣列與其應用 Synthesizing Large-Area Silicon Nanowire Arrays with Electroless Metal Deposition by Grey-Taguchi Method and their Applications 機械工程系所・共同指導：周長彬矽奈米線、無電鍍金屬沉積、化學蝕刻法、抗反射特性、異質介面、表面增強拉曼、Silicon nanowires (SiNWs)、Electroless metal deposition(EMD)、chemical etching、Anti-reflection、Heterojunction、Surface-enhanced Raman spectroscopy (SERS)	博士	98	2012-06-15	2.87 年