林群祐
Lin, Chun-Yu・電機學院・電子研究所
碩士平均畢業時長
1.96 年
中位數 1.97 年・5 人
博士平均畢業時長
3.51 年
中位數 3.51 年・1 人
收錄論文
6 篇
102–114 學年度
全校中位數(供對照)
碩士 2.10・博士 6.11 年
畢業時長趨勢
每學年度畢業人數
只計入有論文收錄的畢業生;中途休學或更換指導教授的學生不會出現在這裡。
研究關鍵字
靜電放電electrostatic discharge (ESD)矽控整流器轉阻放大器silicon-controlled rectifier (SCR)transimpedance amplifier (TIA)跨電源域直接放電路徑cross-domaindirect discharge path射頻與靜電防護協同設計級聯放大器旁路電路電源箝位電路RF-ESD co-designcascade amplifierbypass circuitpower clamp全 nMOS面積效益高耐壓低漏電流負電壓應用all-nMOSarea-effectivehigh-voltage tolerancelow leakagenegative voltage植入式生醫晶片閂鎖防護鰭式場效電晶體蕭特基二極體implanted biomedical deviceslatch-upFinFETsilicon-controlled rectifierSchottky barrier diode靜電放電防護高介電係數 /金屬閘極製程ESD28nm High-K / Metal Gate Process低雜訊放大器二極體射頻differential low-noise amplifier (LNA)dioderadio-frequency (RF)
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指導論文
| 學年度 | 論文 | 學制 | 入學 | 提交日期 | 畢業時長 |
|---|---|---|---|---|---|
| 114 | Design and Verification of Cross-Power-Domain ESD Protection Using Silicon-Controlled Rectifiers 電子研究所 跨電源域、直接放電路徑、靜電放電、矽控整流器、轉阻放大器、cross-domain、direct discharge path、electrostatic discharge (ESD)、silicon-controlled rectifier (SCR)、transimpedance amplifier (TIA) | 碩士 | 113 | 2026-07-31 | 2.00 年 |
| 114 | A Co-Designed ESD Protection and Bypass Circuit for Wideband High-Speed TIA 電子研究所 轉阻放大器、靜電放電、射頻與靜電防護協同設計、級聯放大器、旁路電路、電源箝位電路、Transimpedance amplifier (TIA)、electrostatic discharge (ESD)、RF-ESD co-design、cascade amplifier、bypass circuit、power clamp | 碩士 | 113 | 2026-07-22 | 1.97 年 |
| 114 | All-NMOS High-Voltage-Tolerant Power-Rail ESD Clamp Circuit for Negative Voltage Applications 電子研究所 全 nMOS、面積效益、靜電放電、高耐壓、低漏電流、負電壓應用、all-nMOS、area-effective、electrostatic discharge (ESD)、high-voltage tolerance、low leakage、negative voltage | 碩士 | 113 | 2026-07-21 | 1.97 年 |
| 109 | On-chip ESD Protection and Latch-up Prevention in Silicon Chips for Implantable Biomedical Applications 電子研究所・共同指導:柯明道 靜電放電、植入式生醫晶片、閂鎖防護、鰭式場效電晶體、矽控整流器、蕭特基二極體、electrostatic discharge (ESD)、implanted biomedical devices、latch-up、FinFET、silicon-controlled rectifier、Schottky barrier diode | 博士 | 106 | 2021-02-02 | 3.51 年 |
| 103 | ESD Protection Design in 28nm High-K / Metal Gate Process 電子工程學系 電子研究所・共同指導:柯明道 靜電放電防護、高介電係數 /金屬閘極製程、ESD、28nm High-K / Metal Gate Process | 碩士 | 101 | 2014-11-16 | 2.29 年 |
| 102 | ESD protection design for radio-frequency integrated circuits in nanoscale CMOS technology 電子工程學系 電子研究所・共同指導:柯明道 低雜訊放大器、二極體、靜電放電、射頻、矽控整流器、differential low-noise amplifier (LNA)、diode、electrostatic discharge (ESD)、radio-frequency (RF)、silicon-controlled rectifier (SCR) | 碩士 | 101 | 2014-02-24 | 1.57 年 |