謝美莉

Hsieh, Mei-Li・電機學院・光電工程研究所

碩士平均畢業時長
2.33 年
中位數 2.46 年・4 人
收錄論文
4 篇
102–107 學年度
全校中位數(供對照)
碩士 2.10 年

畢業時長趨勢

每學年度畢業人數

只計入有論文收錄的畢業生;中途休學或更換指導教授的學生不會出現在這裡。

研究關鍵字

光子晶體光學微影堆疊SP2結構製程技術photonic crystalslithographySP2 structureSP2Woodpile structure體積全像全像多工集光器角度容忍度volume hologramholographic multiplexingconcentratorangular tolerance全像術太陽能集光元件HolographySolar concentrator

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指導論文

學年度論文學制入學提交日期畢業時長
107
The study of 3-dimensional SP2 photonic crystals by the combination of optical lithography method and stacking technique
光電工程研究所
光子晶體、光學微影、堆疊、SP2結構、製程技術、photonic crystals、lithography、SP2 structure
碩士1052019-07-062.93 年
105
Realization of 3D Photonic Crystal with SP2 Symmetry by a Novel Optical Lithographic Method
光電工程研究所
光子晶體、SP2、Woodpile structure
碩士1032017-07-032.92 年
104
Experimental studies of 90° light bending by volume hologram: θ-tolerance
光電工程研究所
體積全像、全像多工、集光器、角度容忍度、volume hologram、holographic multiplexing、concentrator、angular tolerance
碩士1032016-01-171.46 年
102
A volume holographic approach for solar concentration by extreme light-bending
光電工程研究所
全像術、太陽能集光元件、Holography、Solar concentrator
碩士1012014-07-291.99 年