陳明哲

Chen, Ming-Jer・電機學院・電子研究所、電子工程學系 電子研究所

碩士平均畢業時長
2.25 年
中位數 2.22 年・27 人
博士平均畢業時長
7.04 年
中位數 7.33 年・5 人
收錄論文
34 篇
100–107 學年度
全校中位數(供對照)
碩士 2.10・博士 6.11 年

畢業時長趨勢

每學年度畢業人數

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研究關鍵字

FinFETmobility臨界電壓變異性隨機擾動訊號電漿子金氧半場效電晶體遷移率模擬SimulationRandom Telegraph SignalsRTSplasmonsmetal gate製程變異Threshold Voltage Variability鰭狀電晶體VariabilityDipole鰭式場效電晶體自然長度Subthreshold SwingDrain-Induced Barrier LoweringNatural lengtheffective channel length能隙窄化bandgap narrowing溫度效應temperature effectHKMG隨機電報訊號統計變異長距庫倫作用MOSFETslong-range Coulomb interactionswave-function penetration臨界電壓偏移dual-dielectric-layerhigh-k遠距庫倫效應遠距庫倫機械應力mechanical stressMOSFET應力p-MOSFETstress鉿氧化物金屬閘極TCAD 模擬奈米線電晶體

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指導論文

學年度論文學制入學提交日期畢業時長
107
Simulation Study of Intrinsic Parameter Fluctuations under Process Variations in Si Gate-All-Around Nanowire MOSFETs
電子研究所
TCAD 模擬、臨界電壓變異性、奈米線電晶體、製程變異、TCAD Simulation、Threshold Voltage Variability、Nanowire MOSFET、Process Variation
碩士1052018-10-222.22 年
107
Threshold Voltage Variability due to Random Variability Sources in Bulk and SOI FinFETs
電子研究所
臨界電壓變異性、鰭狀電晶體、絕緣層上矽、塊材、Variability、FinFET、SOI、Bulk
碩士1052018-10-222.22 年
107
Statistical Variability of Line Edge Roughness Induced Drain- Induced Barrier Lowering Shift in Nanoscale FinFETs
電子研究所・共同指導:簡昭欣
線邊緣粗糙程度、臨界電壓變異性、汲極偏壓致通道能障降低偏移、模擬、Line Edge Roughness、Threshold voltage variability、Drain- Induced Barrier Lowering variability、Simulation
碩士1052018-10-222.22 年
106
Threshold Voltage Variability due to Random HfO2/SiO2 Interface Dipoles in HKMG FinFETs
電子研究所
模擬、電偶極子、臨界電壓變異性、Simulation、Dipole、Variability
碩士1042017-10-302.25 年
106
Simulation and Analysis of the Statistical Variability of Metal Gate Granularity and Random Telegraph Signals Induced Threshold Voltage Shift in Nanoscale FinFETs
電子研究所
金屬閘及顆粒度、隨機擾動訊號、鰭狀電晶體、臨界電壓、Metal gate granularity、Random Telegraph Signals、FinFET、Threshold Voltage
碩士1042017-10-302.25 年
106
Application of Natural Length Model for Subthreshold Swing and Drain-Induced Barrier Lowering in Nanoscale Bulk FinFETs through TCAD Simulation
電子研究所
模擬、鰭式場效電晶體、臨界擺幅、汲極偏壓致通道能障降低效應、自然長度、Simulation、FinFET、Subthreshold Swing、Drain-Induced Barrier Lowering、Natural length
碩士1042017-10-302.25 年
105
Modeling the Statistical Variability of Process and Random Telegraph Signals Induced Threshold Voltage Shifts in Nanoscale MOSFETs and FinFETs
電子研究所
鰭狀場效電晶體、隨機擾動訊號、製程變異、FinFET、RTS、Process
碩士1032016-11-062.27 年
105
Natural Length Based Predictive TCAD for the Subthreshold Swing and Drain-Induced Barrier Lowering in Bulk FinFETs
電子研究所
塊狀基板之鰭式場效電晶體、三閘極電晶體、多閘極電晶體、自然長度、等效通道長度、源極/汲極串聯電阻、汲極偏壓導致通道能障降低效應、次臨界擺幅、bulk FinFET、tri-gate FET、multi-gate FET、natural length、effective channel length、S/D series resistance、drain-induced barrier lowering、subthreshold swing
碩士1032016-10-242.23 年
105
Plasmon-Enhanced Auger Recombination in n-Type Silicon
電子研究所
電漿子、歐傑復合、生命週期、能隙窄化、電子加熱、plasmons、Auger recombination、lifetime、bandgap narrowing、electron heating
碩士1032016-10-232.23 年
105
Investigation on the Inversion-Layer Effective Mobility Degradation Mechanisms in High-k Metal Gate MOSFETs
電子研究所
遠距離電偶極散射、中性缺陷散射、電漿子、溫度效應、remote dipoles scatterers、neutral defects scattering、plasmons、temperature effect
碩士1032016-10-232.23 年
105
Long-Range Coulomb Interaction, Neutral Defect Scattering, and Remote Dipole Scattering in HKMG Ultra-Short Channel FETs
電子研究所
高介電、短通道、效電晶體、長距庫倫、電中性缺陷、遠程偶極、Coulomb、interaction、neutral、dipole、HKMG、FET
博士1002016-01-084.44 年
104
Random Telegraph Signals in Nanoscale FETs: 3D Statistical Variability Models and Trapping/De-trapping Kinetics Analysis
電子工程學系 電子研究所
隨機電報訊號、統計變異、滲透理論、偏壓溫度不穩定性、Random Telegraph Signals、Statistical Varibility、Percolation、Bias Temperature Instability
博士962016-07-208.97 年
104
Probing Long-Range Coulomb Interactions: Experimental Evidence and Microscopic Calculations
電子工程學系 電子研究所
金氧半場效電晶體、江崎穿隧二極體、長距庫倫作用、非拋物線修正、波函數穿隧、MOSFETs、Esaki tunneling diode、long-range Coulomb interactions、non-parabolic correction、wave-function penetration
碩士1022015-10-062.18 年
104
Modeling the Statistical Variability of Random Telegraph Signals Induced Threshold Voltage Shifts in Nanoscale MOSFETs and FinFETs
電子工程學系 電子研究所
隨機擾動訊號、臨界電壓偏移、統計變異、random telegraph signals、threshold voltage shifts、statistical variability
碩士1022015-10-062.18 年
104
Advanced Method of Determining Effective Channel Length Leff and Source/Drain Series Resistance RSD in Nanoscale FETs
電子工程學系 電子研究所
有效通道長度、源/汲極串聯電阻、雙層介質模型、穿隧電流、effective channel length、source/drain series resistance、dual-dielectric-layer、tunneling current
碩士1022015-10-062.18 年
104
Two Key Factors in FETs Scaling:Long-Range Collective Coulomb Interactions and Ballistic Transport
電子工程學系 電子研究所
長距庫倫作用、電漿子震盪、彈道傳輸、金屬閘高介質場效電晶體、Long-Range Collective Coulomb Interactions、Plasmons resonance、Ballistic Transport、high-k、metal gate
碩士1022015-10-062.18 年
103
Explorations on Long-Range Coulomb Interactions in Bulk Silicon
電子工程學系 電子研究所
電漿子、電位擾動、能隙窄化、遷移率、plasmons、potential fluctuations、bandgap narrowing、mobility
碩士1012014-10-132.20 年
103
Plasmons Enhanced Long-Range Coulomb Interactions in Si Metal-Oxide-Semiconductor Devices
電子工程學系 電子研究所
電漿子、矽場效電晶體、遠距庫倫效應、plasmon、Si MOSFET、Long-range Coulomb interaction
碩士1012014-10-132.20 年
103
Modeling the Statistical Distribution of Random Telegraph Signals Magnitudes and Induced Threshold Voltage Shifts in Subthreshold Nanoscale MOSFETs
電子工程學系 電子研究所
隨機擾動訊號、臨界電壓偏移、機率分佈、Random Telegraph Signal、Threshold Voltage Shift、Probability Distribution
碩士1012014-10-132.20 年
102
Probing long-range Coulomb interactions in nanoscale MOSFETs
電子工程學系 電子研究所
遠距庫倫、電子遷移率、Long-rang Coulomb、mobility
碩士1002013-11-282.33 年
102
Modeling the Switching Magnitude of Random Telegraph Signals in Subthreshold Nanoscale MOSFETs
電子工程學系 電子研究所
隨機電報訊號、金氧半場效電晶體、建模、次臨界區、RTS、MOSFETs、Modeling、Subthreshold region
碩士1002013-11-282.33 年
102
Velocity Overshoot Weakening in Ultrashort Double-gate MOSFETs
電子工程學系 電子研究所
速度過衝、遠距庫倫效應、Velocity Overshoot、Long-range Coulomb interactions
碩士100—無法計算
101
HKMG MOSFET Random Telegraph Signals (RTS): Experiment, Modeling, and TCAD Simulation
電子工程學系 電子研究所
隨機擾動電子訊號、缺陷、RTS、trap
碩士982012-12-063.35 年
101
A New In-House Fast Sophisticated Quantum Simulator for Silicon Hole Band Structure and Inversion-Layer Mobility under Three-Dimensional GPa-Level Stresses
電子工程學系 電子研究所
量子侷限效應、機械應力、價電子能帶結構、六能帶 k•p 薛丁格波松方程自洽、Luttinger參數、Bir-Pikus形變電位參數、電洞遷移率、quantum confinement、mechanical stress、valence-band structure、six-band k•p Schrödinger-Poisson self-consistent method、Luttinger parameters、Bir-Pikus deformation potentials、hole mobility
博士932012-12-038.34 年
101
Sophisticated Quantum Computation on n-type Inversion Layers: Strain, Subband, Mobility, and 3-D Structure
電子工程學系 電子研究所
應變、次能階、遷移率、三維應力、Strain、Subband、Mobility、3-D Stress
博士942012-11-297.33 年
101
The Error of Matthiessen's Rule in MOSFET electron Universal Mobility and Its Correction
電子工程學系 電子研究所
馬西森定則、修正、金氧半場效電晶體、Matthiessen's Rule、Correction、MOSFET
碩士992012-10-252.23 年
101
Double-gate MOSFET Simulator
電子工程學系 電子研究所
雙閘極、波函數穿隧效應、double-gate、wave-function penetration
碩士992012-10-182.21 年
101
Experimental Evidence for MOSFET S/D Long-Range Coulomb Effects
電子工程學系 電子研究所
遠距庫倫、遷移率、mobility、long-range
碩士992012-10-082.19 年
101
On Three-Dimensional Stress Altered Hole Inversion-Layer Mobility in (001) and (110) p-MOSFETs
電子工程學系 電子研究所
p型場效電晶體、應力、遷移率、p-MOSFET、stress、mobility
碩士992012-10-042.18 年
101
Exploration of Tunneling Mechanisms in HKMG Stacks
電子工程學系 電子研究所
高介電係數金屬閘極、雙層介電質模型、次奈米、穿隧等效質量、鉿氧化物、穿隧距離、HKMG、dual-dielectric-layer、subnanoscale、tunneling effective mass、Hf oxide、tunneling distance
碩士99—無法計算
100
Advanced Modeling of Gate Tunneling Current in CMOSFETs and FinFETs and Its Potential Application
電子工程學系 電子研究所
機械應力、淺溝槽隔離、穿隧、壓電阻、元件佈局、金氧半場效電晶體、鉿金屬矽化物、鉿氧化物、高介電係數、金屬閘極、鰭式場效電晶體、Mechanical stress、shallow trench isolation、tunneling、piezoresistance、layout、MOSFET、HfSiON、HfO2、high-k、metal gate、FinFET
博士942011-09-156.12 年
100
Accurate Modeling of Gate Electron Tunneling Current in Metal-Gate/High-K nMOSFET and nFinFET
電子工程學系 電子研究所
閘極電子穿隧電流、鰭式電晶體、Gate Electron Tunneling Current、nFinFET
碩士982011-08-172.04 年
100
Temperature-Dependent Experiment to Distinguish Remote Scatterers in Polysilicon Ultrathin Gate Oxide MOSFETs
電子工程學系 電子研究所
遠距散射、溫度效應、遠距離庫倫散射、遠距聲子散射、表面電漿子、remote scatterers、temperature effect、remote coulomb scatterers、remote phonon scatterers、interface plasmons
碩士982011-08-152.04 年
100
A Novel Six-Band k•p Simulator for Hole Gate Tunneling Current in (001) and (110) Strained pMOSFETs with Polysilicon, FUSI, and Metal Gates
電子工程學系 電子研究所
應力、閘極電洞穿隧電流、P通道金氧半場效電晶體、金屬閘極、全矽化閘極、stress、hole gate direct tunneling、p-MOSFET、metal gate、FUSI gate
碩士982011-08-142.03 年