許博淵

Shew, Bor-Yuan・工學院・工學院加速器光源科技與應用學位學程

碩士平均畢業時長

2.55 年

中位數 2.24 年・14 人

收錄論文

17 篇

100–110 學年度

全校中位數（供對照）

碩士 2.10 年

畢業時長趨勢

每學年度畢業人數

只計入有論文收錄的畢業生；中途休學或更換指導教授的學生不會出現在這裡。

研究關鍵字

多層膜multilayer極紫外光氣體感測器gas sensorEUV微波退火IGZOmicrowave annealing薄膜電晶體金屬閘極輻射metal gateradiation極紫外光微影Radiation Damage氧化鉿鋯鐵電材料X光吸收光譜X光線性二色性第一原理計算半定量分析Hf1-xZrxO2ferroelectric materialX-ray absorption spectroscopyX-ray linear dichroismfirst principle calculationsemi-quantitative analysis氧銦鎵鋅氧化銦镓鋅二氧化碳大氣電漿Carbon MonoxideAP PECVD氧銦鎵鋅薄膜氧氣電漿處理a-IGZOO2 plasma同步輻射銦鎵鋅氧synchrotron radiationindium gallium zinc oxidethin film transistor退火氧化錫爐管FurnaceAnnealing噴墨印刷銀Inkjet Print Silver

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指導論文

學年度	論文	學制	入學	提交日期	畢業時長
110	氧化鉿鋯線性二色性光譜:結合實驗與模擬計算之研究 Linear Dichroism Spectrum of Hf1-xZrxO2 : a Study That Combines Experimental and Computational Approaches 工學院加速器光源科技與應用學位學程・共同指導：林炯源氧化鉿鋯、鐵電材料、X光吸收光譜、X光線性二色性、第一原理計算、半定量分析、Hf1-xZrxO2、ferroelectric material、X-ray absorption spectroscopy、X-ray linear dichroism、first principle calculation、semi-quantitative analysis	碩士	106	2022-01-18	4.47 年
109	使用微波退火氧銦鎵鋅薄膜應用於一氧化碳氣體感測之研究 Study of carbon monoxide gas sensor based on IGZO films by microwave annealing 工學院加速器光源科技與應用學位學程・共同指導：張國明微波退火、氧銦鎵鋅、氣體感測器、IGZO、gas sensor、microwave annealing	碩士	108	—	無法計算
108	使用大氣電漿製作氧化銦镓鋅薄膜之一氧化碳感測器研究 Enhancement of Carbon Monoxide Sensor Using IGZO Thin Films by AP-PECVD 工學院加速器光源科技與應用學位學程・共同指導：張國明氣體感測器、氧化銦镓鋅、二氧化碳、大氣電漿、Gas sensor、IGZO、Carbon Monoxide、AP PECVD	碩士	106	2019-12-25	2.40 年
108	表面處理對氧銦鎵鋅薄膜應用於紫外光驅動一氧化碳氣體感測之研究 Study of Carbon Monoxide Gas Sensor Activation by UV Light and Based on IGZO Films by Surface Treatment 工學院加速器光源科技與應用學位學程・共同指導：張國明氣體感測器、氧銦鎵鋅薄膜、氧氣電漿處理、微波退火、Gas sensor、a-IGZO、O2 plasma、Microwave annealing	碩士	107	—	無法計算
107	利用同步輻射技術分析大氣常壓電漿輔助化學氣相沉積製備非晶銦鎵鋅氧薄膜之特性研究 Synchrotron Radiation Technology Study of AP-PECVD fabricated amorphous InGaZnO 工學院加速器光源科技與應用學位學程・共同指導：張國明同步輻射、銦鎵鋅氧、薄膜電晶體、synchrotron radiation、indium gallium zinc oxide、thin film transistor	碩士	105	2018-08-19	2.05 年
104	藉由爐管退火在氮氣與氧氣環境下製備 P 型氧化錫薄膜電晶體之探討 Investigation of p-type SnOx Thin-Film Transistors with Furnace Annealing in Nitrogen and Oxygen ambient 工學院加速器光源科技與應用學位學程・共同指導：張國明退火、氧化錫、爐管、Furnace、Annealing	碩士	103	2016-08-01	2.00 年
104	利用膠帶撕黏製程與銀鏡反應製程改善噴墨銀導線特性 Characteristic Improvement of Inkjet Printed Ag Interconnects Using Tape On-Off and Mirror-Reaction Processes 工學院加速器光源科技與應用學位學程・共同指導：鄭裕庭噴墨印刷銀、Inkjet Print Silver	碩士	102	2015-10-22	2.22 年
104	碳化硼介面層於鉬/矽極紫光微影多層膜反射鏡中的熱與光學性質之研究 The Effects of B4C Interlayer on the Thermal and Optical Properties of Mo/Si Multilayers Mirror for EUV Lithography 工學院加速器光源科技與應用學位學程・共同指導：崔秉鉞極紫光微影、多層膜、鉬/矽、碳化硼、13.5奈米、EUVL、multilayer、Mo/Si、B4C、13.5nm	碩士	102	2015-09-09	2.11 年
104	雙重中性粒子束氧化處理於高介電係數二氧化鋯及銦鎵鋅氧通道電晶體之研究 The Study of InGaZnO Thin Film Transistors with Dual Treatment of Pre-oxidation ZrO2 High-ĸ Dielectric and Post-oxidation InGaZnO Channel by Neutral Beam System 工學院加速器光源科技與應用學位學程・共同指導：張國明薄膜電晶體、氧化銦鎵鋅、大氣壓電漿輔助化學氣相沉積、中性粒子束、Thin Film Transistors、InGaZnO、Neutral Beam System、AP-PECVD	碩士	103	—	無法計算
103	具高靈敏度生物感測之矽锗奈米線於氟強化鈍化處裡技術應用之特性研究 Investigation of Fluorine enhanced oxide passivation on SiGe nanowire with high sensitivity bio-sensor 工學院加速器光源科技與應用學位學程・共同指導：張國明矽鍺、奈米線、生物感測器、氟強化鈍化處裡、靈敏度、Fluorine enhanced oxide passivation、SiGe、nanowire、sensitivity、bio-sensor	碩士	100	2015-06-30	3.91 年
103	電漿處理對二氧化鉿/矽介面層抗輻射能力之影響 Effect of plasma treatment on the radiation hardness of the HfO2/Si interfacial layer 工學院加速器光源科技與應用學位學程・共同指導：崔秉鉞極紫外光、高介質電質、金屬閘極、輻射、EUV、high-k、metal gate、radiation	碩士	100	2014-09-12	3.12 年
102	應用於極紫外光微影之高反射率多層膜反射鏡設計、製作與特性量測 Design, Fabrication, and Characterization of High-Reflectance Multilayer Mirrors for Extreme Ultra-Violet Lithography 工學院加速器光源科技與應用學位學程・共同指導：黃遠東極紫外光、微影、多層膜、反射鏡、EUV、lithography、multilayer、reflective mirror	碩士	101	2014-09-01	2.08 年
101	應用於極紫外光微影多層膜反射鏡之設計、研製與特性量測 Design, Fabrication, and Characterization of Multilayer Mirrors for Extreme Ultra-Violet Lithography 工學院加速器光源科技與應用學位學程・共同指導：黃遠東極紫外光微影、多層膜、磁控濺鍍系統、反射儀、EUV lithography、multilayer、magnetic sputter system、reflectometer	碩士	100	2013-09-01	2.09 年
101	游離輻射對具有不同厚度之鉿氧化物金氧半元件影響之研究 A Study on the Effect of Ionizing Radiation on MOS Devices with Various Hf-based Dielectric Thickness 工學院加速器光源科技與應用學位學程・共同指導：崔秉鉞極紫外光輻射微影、輻射損傷、高介電係數介電層、金屬閘極、Extremely Ultraviolet Lithograohy、Radiation Damage、High-K Dielectric、Metal Gate	碩士	99	2013-01-08	2.44 年
101	游離輻射對電阻式記憶體的影響之研究 A Study on Effect of Ionizing Radiation on Resistive Random Access Memory 工學院加速器光源科技與應用學位學程・共同指導：崔秉鉞極紫外光、輻射傷害、電阻式記憶體、Extreme Ultraviolate、Radiation damage、Resistive Random Access Memory	碩士	99	2012-11-01	2.25 年
100	極紫外光微影之鉬矽多層膜鏡片與光罩反射率改善研究 Reflectance Improvement of Mo/Si Multilayer Mirrors and Masks for Extreme Ultra-Violet Lithography 工學院加速器光源科技與應用學位學程・共同指導：黃遠東極紫外光微影、多層膜、屏障層、覆蓋層、介面工程、Extreme Ultra-Violet Lithography (EUVL)、Multilayer、Barrier layer、Capping layer、Interface-Engineered	碩士	98	2012-02-09	2.52 年
100	介面處理對鉿氧化物之抗極紫外光輻射損傷之影響研究 Effect of Interfacial Layer Engineering on the Radiation Hardness of Hf-based Dielectrics to EUV Irradiation 工學院加速器光源科技與應用學位學程・共同指導：黃遠東、崔秉鉞極紫外光、氧化鉿、輻射、EUV、HfO2、radiation	碩士	98	2011-09-08	2.10 年